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Trichlorsilan formel

WebThe present invention relates to a process for preparing trichlorosilane and optionally, if required, HCDS and OCTS, by a) in a first step, allowing silicon tetrachloride and silicon to … WebDec 21, 2024 · Visit ChemicalBook To find more Methyltrichlorosilane(75-79-6) information like chemical properties,Structure,melting point,boiling point,density,molecular formula,molecular weight, physical properties,toxicity information,customs codes. You can also browse global suppliers,vendor,prices,Price,manufacturers of …

Trichlorosilane - Wikipedia

WebBrute formel. H 3 Cl Si. Molar masse. 66,562 ± 0,003 g / mol. H 4,54%, Cl 53,26%, Si 42,19%, Enheder af SI og STP, medmindre andet er angivet. Den chlorsilan er en kemisk forbindelse med formlen SiH 3 Cl. Mere generelt betegner chlorsilaner en familie af chlorerede derivater af silaner, der har mindst en Si-Cl- binding , og er meget anvendt i ... WebCAS: 10025-78-2 MDL: MFCD00011518 EINECS: 233-042-5 オムライス 激安 https://kathrynreeves.com

三氯氫矽 - 維基百科，自由的百科全書

WebTrichlorosilane (TCS). SiHCl 3 Product information Characteristics Physical data Product specification Shipping information Purity grade Typical purity Typical impurities WebChemische Formel: SiH2Cl2 INDEX-Nr. - CAS-Nr. 4109-96-0 EG-Nr. 223-888-3 REACH Registrierungs-Nr Steht nicht zur Verfügung. 1.2 Relevante identifizierte Verwendungen des Stoffs oder Gemischs und Verwendungen, von denen abgeraten wird Identifizierte Verwendungen: Industriell und berufsmäßig. Vor Anwendung Gefährdungsbeurteilung … WebTrichlorsilan se vyrábí reakcí metalurgicky čistého křemíku s plynným chlorovodíkem při 300 °C. Vedlejším produktem je vodík : Výtěžnost bývá 80 až 90 %. Nejvýznamnějšími vedlejšími produkty jsou chlorid křemičitý (SiCl 4 ), hexachlordisilan (Si 2 Cl 6) a dichlorsilan (H 2 SiCl 2 ); trichlorsilan se ze směsi ... park model communities in az

Trichlorsilan VWR

Category:10025-78-2 supplier and manufacturer - BuyersGuideChem

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Trichlorsilan formel

Trichlorsilan VWR

WebMethylsilyl trichloride; SiCH3Cl3; Methyl-trichlorsilan; Methyl-trichlorsilan [Czech]; UNII-UIR5I18638; Methyltrichlorosilane; Methyl silicon trichloride; Silane ... WebTrichlorosilane has been used to synthesize 11-dicyclohexylphosphino-12-phenyl-9,10-dihydro-9,10-ethenoanthracene (H-KITPHOS) via reduction of 11-dicyclohexylphosphinoyl …

Trichlorsilan formel

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WebEin kubisches Silsesquioxan. Ein Silsesquioxan ist eine Organosiliciumverbindung mit der chemischen Formel [RSiO 3/2 ] n(R = H, Alkyl, Aryl oder Alkoxyl).Silsesquioxane sind farblose Feststoffe, die käfigartige oder polymere Strukturen mit Si-O-Si-Bindungen und tetraedrischen Si-Eckpunkten annehmen. Silsesquioxane sind Mitglieder von … WebThe invention pertains to a method for recovering hexachlorodisilane from mixtures, present within process offgas streams, of chorosilanes of the general formula SixHyCl2x+2-y, …

WebTrichlorsilan 98%. Trichlorosilane. Formel: HCl₃Si MW: 135,45 g/mol Siedepunkt: 31…32 °C Melting Pt: –127 °C Dichte: 1,342 Flash-Pt: –28 °C (7 °F) Lager Temperatur: Kühlschrank: MDL Number: MFCD00011518 CAS-Nummer: 10025-78-2 EINECS: 233-042-5 UN: 1295 WebTrichlorsilan se vyrábí reakcí metalurgicky čistého křemíku s plynným chlorovodíkem při 300 °C. Vedlejším produktem je vodík : Výtěžnost bývá 80 až 90 %. Nejvýznamnějšími …

WebGHS Hazard Statements: H224: Extremely flammable liquid and vapor [Danger Flammable liquids]H260: In contact with water releases flammable gases which may ignite … WebDer Dampfdruck ist der Druck, der sich einstellt, wenn sich in einem abgeschlossenen System ein Dampf mit der zugehörigen flüssigen Phase im thermodynamischen Gleichgewicht befindet. Der Dampfdruck nimmt mit steigender Temperatur zu und ist abhängig vom vorliegenden Stoff bzw. Gemisch. Ist in einem offenen System der …

WebSalzsäure zu Trichlorsilan umgesetzt: Si + 3 HCl →H2 + SiHCl3 (Tb = 35°C) • Filterung und Destillation • Thermische Zersetzung bei 1000 - 1150°C: SiHCl3 + H2 →Si + 3 HCl 2 SiHCl3 →Si + SiCl4 + 2 HCl 4 SiHCl3 →Si + 3 SiCl4 + 2 H2 • Abscheidung an polykristallinem Si (Si-Seele) Prozess wurde von Siemens 1954 patentiert

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